联系我们
EN
电子束光刻装置
电子束光刻装置
您的当前位置：首页 > 产品信息 > 电子束光刻装置 >
产品中心
JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。此外，该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精度和套刻精度，性能比优越。利用最细电子束束斑（实测值直径≦2.9nm）可以描画8nm以下(实际可达5nm)极为精细的图形。
MORE VIEW
JBX-9500FS　电子束光刻系统
JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界最高水平的产出量和定位精度，最大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个领域的研发及生产。
MORE VIEW
JBX-3200MV　电子束光刻系统
JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统?
MORE VIEW
JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 节点的掩模版/中间掩模版（mask/reticle）的可变矩形电子束光刻系统。最先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
MORE VIEW
JBX-8100FS 圆形电子束光刻系统
最新高精密JBX-8100FS圆形电子束光刻系统，通过全方位的设计优化，实现更简便的操作，更快的刻写速度，更小的占地面积和安装空间，并且更加绿色节能。
MORE VIEW
Copyright © 苏州赛非特电子科技有限公司 版权所有 技术支持：网站维护 备案号：苏ICP备18062909号-1