用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。
电子束蒸镀法的特征
用电子束直接照射镀膜材料进行加热，因此热效率高，能蒸发高熔点金属、氧化物、化合物、升华性物质等各种材料。
镀膜材料在水冷铜坩埚内(*)被直接加热，因此不会象电阻加热式或感应加热式那样与坩埚发生反应。
*可能需要使用坩埚内衬。
能迅速控制输出，因而能精确地控制膜厚。
与溅射法及 CVD 法相比，能快速镀膜是一大特征。
对形成1µm 以上的厚膜也很有效。
日本电子制造的电子枪/电源的特征
[ 氧化物 ]
电子束垂直照射镀膜材料，束斑近似圆形，具有能量密度高的特征。此外，由于标准配备了快速扫描功能，非常适合蒸镀融点高、热传导性低的氧化物及升华性材料，能获得良好的熔痕，大面积的镀膜区域上膜厚分布均匀，重现性好。
[ 金属 ]
坩埚的选择范围很大，能进行多种、大量、高速率的蒸镀，还有用来抑制成膜时温度上升的剥离工艺用电子枪。
[ 合金复合膜 ]
往临近的两个或三个坩埚内充填不同的材料，使用专用的扫描控制器进行双源或三源蒸发，可以形成合金膜和复合膜。
| 型号 | 最大输出功率 | 偏转角度 | 灯丝 | 电子束扫描 | 坩埚 | 氧化物 | 金属 |
| BS-60060DEBS | 6.4kW | 270° | Ｕ字形 （长寿命） |
快速 扫描 |
无*2 | ◎ | ○ |
| BS-60050EBS | 10kW | 270° | 无*2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60040VDGN | 10kW | 270° | 无*2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60030DGN | 10kW | 270° | 无*2 | ◎ | ○ | ||
| EBG-102UB6S | 10kW | 180° | 漩涡形 | 12cc×6 个 | ◎ | ○ | |
| EBG-102UB4S | 10kW | 180° | 12cc×4 个 | ◎ | ○ | ||
| JEBG-102UH0 | 10kW | 180° | 无*2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60210DEM ＋BS-60140H4H |
10kW | 270° | 直线线圈形 （长寿命） |
中速 扫描 |
40cc×4 个 | △ | ◎ |
| BS-60210DEM ＋BS-60150H6H |
10kW | 270° | 40cc×6 个 | △ | ◎ | ||
| EBG-203UB6S | 20kW*1 | 270° | 漩涡形 | 快速 扫描 |
12cc×6 个*3 | ○ | ◎ |
| EBG-203UB4H | 20kW*1 | 270° | 12cc×2 个 28cc (半球)×2 个 |
○ | ◎ | ||
| JEBG-203UA0 | 20kW*1 | 270° | 无*4 | ○ | ◎ | ||
| JEBG-303UA | 30kW*1 | 270° | 无*5 | ○ | ◎ |
*1: EB电源最大输出功率为16kW，实际能使用的最大输出功率为16kW。
*2: 可以定制 ⇒12cc×4 或6个 等
*3: 坩堝小凹孔的形状可以改变 ⇒ 28cc（φ45×20h）×6个， 51cc（φ60×20h）×3个等。
*4: 可以定制 ⇒40cc（φ50×25h）×4或6个， 114cc（φ75×30h）×1个等
*5: 可以定制 ⇒114cc（φ75×30h）×1个， φ34×20h×3个小凹穴（同时蒸镀用）， φ70×30h×4个 等
关于坩埚规格请另行咨询。
